據美國媒體《信息報》本周一（7月27日）援引兩名不具名知情人士稱，一家總部位於上海的企業已啓動浸沒式深紫外（DUV）光刻機的小規模批量生產，預計今年內向中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲等主要芯片製造商交付首批約5台設備，2027年產量計劃提升至約20台。這款中國產光刻機主打28納米芯片生產，還可滿足7納米級別芯片的製造需求。